Essence of Micro/Nano Lithography 纳米光刻技术的精髓
时 间：2015年6月9日（星期二）9：45-12：00
地 点：新捕京3522com理科2号楼2129报告厅
从上世纪80年代至今，光刻技术从最初微米级别几何结构的探索阶段发展到了纳米的尺度，其中包含了大量的高科技创新。科研人员需要具备怎样的知识才能科学地进行光刻呢？本讲座将会从一些关键参数和概念出发，带你快速了解光刻技术的精髓。本讲座的内容包括焦点缩放的分辨率与深度、E-D树与E-D森林、倍增空间频率的方法、浸润式光刻以及极紫外光刻等。
林本坚博士是美国国家工程院院士、国际电气和电子工程学会会士（IEEE Fellow）、国际光学工程学会会士（SPIE Fellow）、台湾工业技术研究院院士，现任全球最大的半导体代工企业台积电公司的杰出科技院士和研发副总，曾荣获奖项包括：IEEE Nishizawa Medal Award、IEEE Cledo Brunnetti Award、SPIE 1st Frits Zernike Award、TSMC Innovation Award (2)、IBM Awards (11)。他对半导体产业发展有重大贡献，最受人称道的是发明了浸润式光刻技术，以水当成光刻介质。这是半导体业的创举，让半导体制造工艺得以顺利推进到65纳米以下，也使得台积电制造技术得以稳居世界领导地位。
